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國林科技兩項技術入選《產業(yè)基礎創(chuàng)新發(fā)展目錄(2021年版)》

2022-08-09

近期,由中國工程院、國家制造強國建設戰(zhàn)略咨詢委員會指導,國家產業(yè)基礎專家委員會編制的《產業(yè)基礎創(chuàng)新發(fā)展目錄(2021年版)》發(fā)布,國林科技子公司青島國林半導體技術有限公司的半導體制程專用超純高濃度臭氧裝置、新疆國林新材料有限公司的基于臭氧法的晶體乙醛酸一水合物制備基礎工藝分別入選環(huán)保、低碳及資源綜合利用裝備領域基礎制造工藝及裝備。

《產業(yè)基礎創(chuàng)新發(fā)展目錄(2021年版)》在《工業(yè)“四基”發(fā)展目錄(2016 年版)》基礎上,新增了工業(yè)基礎軟件,構成了“五基”(基礎零部件和元器件、基礎材料、工業(yè)基礎軟件、基礎制造工藝及裝備、產業(yè)技術基礎)創(chuàng)新發(fā)展目錄,成為我國完善產業(yè)基礎頂層設計的重要組成,也是產業(yè)基礎再造工程實施的重要抓手。

近年來,國林科技不僅深耕自身臭氧發(fā)生器生產制造領域,更是加大科研投入,加強技術攻關,在半導體清洗、新材料研發(fā)等領域不斷取得新的突破。

青島國林半導體技術有限公司研發(fā)的半導體制程專用超純高濃度臭氧裝置,采用無機超純材料與超純生產工藝,實現(xiàn)了極低金屬離子析出型的高純度、高濃度的臭氧制造,達到半導體行業(yè)超高潔凈度要求;通過自主創(chuàng)新實現(xiàn)整機與核心部件國產化。

圖一 電子級超純臭氧發(fā)生器

新疆國林新材料有限公司的基于臭氧法的晶體乙醛酸一水合物制備基礎工藝,經過十余年的研發(fā)和實驗,解決了臭氧氧化順丁烯二酸酐法生產晶體乙醛酸一水合物的技術難題,形成了自有知識產權的臭氧氧化順丁烯二酸酐法乙醛酸一水合物專有技術,該技術在環(huán)境保護、安全生產、產品質量及能耗物耗方面均取得了重大突破。臭氧的利用率達到90%以上,大幅度降低了生產成本,改善了產品質量,提高了產品競爭力,能夠極大的促進乙醛酸下游產品的品質提升和產品研發(fā),并占領乙醛酸高端應用市場。

圖三 乙醛酸晶體

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